HJ/T84水質無機陰離子的測定離子色譜法

HJ/T91地表水和污水監測技術規范

HJ/T195水質氨氮的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T199水質總氮的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T200水質硫化物的測定氣相分子吸收光譜法

HJ/T373固定污染源監測質量保證與質量控制技術規范（試行）

HJ/T397固定源廢氣監測技術規范

HJ/T399水質化學需氧量的測定快速消解分光光度法

HJ484水質氰化物的測定容量法和分光光度法

HJ485水質銅的測定二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法

HJ486水質銅的測定2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法

HJ487水質氟化物的測定茜素磺酸鋯目視比色法

HJ488水質氟化物的測定氟試劑分光光度法

HJ489水質銀的測定3,5-Br2-PADAP分光光度

HJ490水質銀的測定鎘試劑2B分光光度法

HJ493水質采樣樣品的保存和管理技術規定

HJ494水質采樣技術指導

HJ495水質采樣方案設計技術指導

HJ501水質總有機碳的測定燃燒氧化-非分散紅外吸收法

HJ533環境空氣和廢氣氨的測定納氏試劑分光光度法

HJ534環境空氣氨的測定次氯酸鈉-水楊酸分光光度法

HJ535水質氨氮的測定納氏試劑分光光度法

HJ536水質氨氮的測定水楊酸分光光度法

HJ537水質氨氮的測定蒸餾-中和滴定法

HJ538固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法(暫行)

HJ544固定污染源廢氣硫酸霧的測定離子色譜法（暫行）

HJ547固定污染源廢氣氯氣的測定碘量法（暫行）

HJ548固定污染源廢氣氯化氫的測定硝酸銀容量法（暫行）

HJ549環境空氣和廢氣氯化氫的測定離子色譜法(暫行)

HJ583環境空氣苯系物的測定固體吸附/熱脫附-氣相色譜法

HJ584環境空氣苯系物的測定活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法

HJ629固定污染源廢氣二氧化硫的測定非分散紅外吸收法

HJ636水質總氮的測定堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法

HJ637水質石油類和動植物油的測定紅外分光光度法

HJ657空氣和廢氣顆粒物中鉛等金屬元素的測定電感耦合等離子體質譜法

HJ659水質氰化物等的測定真空檢測管-電子比色法

HJ644環境空氣揮發性有機物的測定吸附管采樣－熱脫附/氣相色譜－質譜法

HJ665水質氨氮的測定連續流動-水楊酸分光光度法

HJ666水質氨氮的測定流動注射-水楊酸分光光度法

HJ667水質總氮的測定連續流動-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ668水質總氮的測定流動注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ670水質磷酸鹽和總磷的測定連續流動-鉬酸銨分光光度法

HJ671水質總磷的測定流動注射-鉬酸銨分光光度法

HJ685固定污染源廢氣鉛的測定火焰原子吸收分光光度法

HJ692固定污染源廢氣氮氧化物的測定非分散紅外吸收法

HJ693固定污染源廢氣氮氧化物的測定定電位電解法

HJ694水質汞、砷、硒、鉍和銻的測定原子熒光法

HJ700水質65種元素的測定電感耦合等離子體質譜法

HJ732固定污染源廢氣揮發性有機物的采樣氣袋法

HJ734固定污染源VOCs的測定固相吸附-熱脫附-氣相色譜-質譜法

HJ801環境空氣和廢氣酰胺類化合物的測定液相色譜法

HJ819排污單位自行監測技術指南總則

AQ/T4274局部排風設施控制風速檢測與評估技術規范

《污染源自動監控管理辦法》（國家環境保護總局令第28號）

《環境監測管理辦法》（國家環境保護總局令第39號）

3術語和定義

下列術語和定義適用于本標準。

3.1電子專用材料specialelectronicmaterials

在半導體集成電路、各種電子元器件（包括有源及無源元器件、鋁電解電容器、激光器件、光通訊器件、發光二極管器件、液晶顯示器件等電子基礎產品）制造中所采用的特定材料。本標準中電子專用材料涵蓋的產品范圍包括半導體材料、覆銅板、電子銅箔、鋁電解電容器電極箔、光電子材料、藍寶石基片、壓電晶體材料、電子專用精細化工與高分子材料，但不包括真空材料、磁性材料、焊接材料和陶瓷材料等。具體產品范圍見附錄A。

3.2電子元件electricalunit

電子電路中具有某種獨立功能的單元，可對電路中電壓和電流進行控制、變換和傳輸等。一般包括：

電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控

制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等產品。

3.3印制電路板printedcircuitboard（PCB）

在絕緣基材上，按預定設計形成印制元件、印制線路或兩者結合的導電圖形的印制電路或印制線路成品板。印制電路板包括剛性板與撓性板，單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及剛撓結合印制電路板和高密度互連印制電路板等。

3.4半導體器件semiconductordevice

利用半導體材料的特殊電特性制造，以實現特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產品。

3.5光電子器件photoelectroncomponent

利用半導體光-電子（或電-光子）轉換效應制成的各種功能器件。如發光二極管（LED）；半導體光電器件中的光電轉換器、光電探測器等；激光器件中的氣體激光器件、半導體激光器件、固體激光器件、靜電感應器件等；光通信電路及其他器件；半導體照明器件等。

3.6顯示器件displaydevice

基于電子手段呈現信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件（TN/STN-LCD、TFT-LCD）、低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件（LTPS-TFT-LCD）、有機發光二極管顯示器件（OLED）、真空熒光顯示器件（VFD）、場發射顯示器件（FED）、等離子顯示器件（PDP）、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。

3.7電子終端產品electronterminalsproduct

以采用印制電路板（PCB）組裝工藝技術為基礎裝配的具有獨立應用功能的電子信息產品或組件。如通信設備、雷達設備、廣播電視設備、電子計算機、視聽設備、電子測量儀器等。

3.8現有企業existingfacility

本標準實施之日前已建成投產或環境影響評價文件已通過審批的電子工業企業或生產設施。

3.9新建企業newfacility

本標準實施之日起環境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建電子工業建設項目。

3.10直接排放directdisge

排污單位直接向環境水體排放水污染物的行為。

3.11間接排放indirectdisge

排污單位向公共污水處理系統排放水污染物的行為。

3.12公共污水處理系統publicwastewatertreatmentsystem

通過納污管道等方式收集廢水，為兩家及兩家以上排污單位提供廢水處理服務并且排水能夠達到相關排放標準要求的企業或機構，包括各種規模和類型的城鎮污水處理廠、區域（包括各類工業園區、開發區、工業聚集地等）廢水處理廠等，其廢水處理程度應達到二級或二級以上。

3.13排水量effluentvolume

生產設施或企業向企業法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產有直接或間接關系的各種外排廢水（含廠區生活污水、冷卻廢水、廠區鍋爐和電站排水等）。

3.14單位產品基準排水量benchmarkeffluentvolumeperunitproduct

用于核定水污染物排放濃度而規定的生產單位電子產品的廢水排放量上限值。

3.15揮發性有機物volatileorganiccompounds

參與大氣光化學反應的有機化合物，或者根據規定的方法測量或核算確定的有機化合物。

根據行業特征和環境管理需求，可選擇對主要VOCs物種進行定量加和的方法測量總有機化合物（以TVOC表示），或者選用按基準物質標定，檢測器對混合進樣中VOCs綜合響應的方法測量非甲烷有機化合物（以NMHC表示，以碳計）。

3.16標準狀態standardcondition

溫度為273.15K、壓力為101325Pa時的狀態。本標準規定的大氣污染物排放濃度限值均以標準狀態下的干氣體為基準。

3.17企業邊界enterpriseboundary

電子工業企業或生產設施的法定邊界。若無法定邊界，則指企業或生產設施的實際占地邊界。

3.18排氣筒高度stackheight

自排氣筒（或其主體建筑構造）所在的地平面至排氣筒出口計的高度，單位為m。

4水污染物排放控制要求

4.1現有企業2021年1月1日前仍執行現行標準，自2021年1月1日起執行表1規定的水污染物排放限值。

4.2新建企業自2019年1月1日起執行表1規定的水污染物排放限值。

4.3根據環境保護工作的要求，在國土開發密度已經較高、環境承載能力開始減弱，或環境容量較小、生態環境脆弱，容易發生嚴重環境污染問題而需要采取特別保護措施的地區，應嚴格控制企業的污染物排放行為，在上述地區的電子工業企業執行表2規定的水污染物特別排放限值。

執行水污染物特別排放限值的地域范圍、時間，由國務院環境保護行政主管部門或省級人民政府規定。

4.4新建企業自2019年1月1日起，現有企業自2021年1月1日起，執行表3規定的單位產品基準排水量。

編輯：程彩云